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发布时间:2021-07-24 09:35:57
型的灯冷却需要大量气流,因此,额外的能量。如此高的气流消除了使用惰性气体改善表面固化的实用性。(昂贵的惰性气体会随着冷却空气不断耗尽。)在过去10年里,用发光二极管产生高强度的紫外光子的科学已经取得了显著的进步。现在有许多商业应用的紫外线LED技术,使更广泛地使用热敏基板,并提供更经济的整体紫外线固化消除巨大的空气处理结构和成本。(当高输出的水冷却[ 4 W / cm ]系统被计算出来时,节约能源的估计比一个典型的灯系统高50%。)附带的好处包括一个紧凑、安静的过程,
具有“即时开/关”功能,以及更长的持续紫外线光源(20000小时vs 2000小时)。UVLED固化的好处如图1所示。与更大的UV固化市场一样,UVLED固化自成立以来已经取得了巨大的增长,自2009以来每年增长50 + %,其中大多数是在国际市场上销售的。3。随着UVLED器件的功率和效率的提高,它们被用于更多的过程,如数字平板应用。在图形艺术中,UVLED系统分为两个部分:低功耗、风冷系统和高功率水冷系统。低功耗系统通常适用于喷墨扫描应用,而大功率系统正慢慢地进入传统的高速打印设备。
10光稳定剂744成? 分:4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四性能及用途:本品为白色结晶粉末。熔点95~98℃,分解温度280℃以上。溶于、乙醇、醋酸乙酯、,不溶于水。本品为受阻型光稳定剂,其本身几乎没有吸收紫外线的能力,但可有效地捕获高分子材料在紫外线作用下产生的活性自由基,从而发挥光稳定效用。本品适用于聚、聚乙烯、聚、聚氨酯、聚酰胺和聚酯等多种塑料,在聚烯烃中效果尤为突出。本品的耐光性为一般紫外线吸收剂的数倍。不着色,不污染,耐热加工性良好,与剂和紫外线吸收剂并用,具有优良的协同效应。
从分子结构中可以知道,在MK(mpz)2和PMKPR两种分子中,羰基数和氮原子数的比例是1:4,而MKE和MK(pip)2中羰基数和氮原子数的比例是1:2。在引发效率的对比测试中,为了使得测试条件相同,向MK(pip)2和MKE中添加了1,4-二哌嗪(DMP)作为助引发剂,从而使得羰基数和氮原子数比例均为1:4。图3 四种光引发体系的分子结构图图4 四种光引发剂在溶液中的UV-vis吸收光谱表1四种光引发剂在溶液中的UV-vis数据 在所合成的三种光引发剂中,MK(mpz)2和PMKPR具有相似的结构, 也就是含有一个羰基结构的分子中都含有两个脂肪族叔胺,而这比芳香族叔胺反应性更高。图5 光引发剂在吸收条件下随时间的转化率曲线
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